【技术开发单位】中国科学院上海光学精密机械研究所
【技术概述】技术开发单位开展了光学元件机械加工、清洗、镀膜、检测技术的研究优化，形成了高损伤阈值激光薄膜元件制备技术方案及生产流程线，实现了高损伤阈值、优良光性质量和波面质量的激光薄膜元件制造产业化。通过从坯料测试、粗磨、精磨、粗抛、精抛到表面处理各环节工艺优化， 完成高面形精度、高表面质量和低亚表面缺陷的基片加工。以物理气相沉积技术为基础，通过优化基底清洗技术、膜系设计、镀膜沉积技术工艺、后处理工艺等完成高损伤阈值、优良光性质量和波面质量的激光薄膜元件的制备。
【技术指标】元件口径从 φ5 ～ φ1000mm；反射元件的反射率高于 99.8%，减反类元件的剩余反射低于 0.2%，偏振类元件的消光比大于 100:1；抗激光损伤阈值方面：反射类元件大于 30J/cm2，减反类元件大于 20J/cm2，偏振类元件大于 15J/cm2。
【技术特点】可对高损伤阈值激光薄膜元件制备的全链路进行工艺控制，突破了缺陷探测与控制技术、全频域波前控制技术和膜层厚度与应力控制技术，制备的薄膜元件可同时满足高损伤阈值、优良光性质量和波面质量的指标要求。
【先进程度】国内先进
【技术状态】小批量生产、工程应用阶段
【适用范围】可应用于光通信、激光精密加工、半导体制备、医疗、科研等领域。
【专利状态】已授权发明专利 9 项。
【合作方式】与其他单位合作进行技术开发、市场开拓等，并共享新产品有关权益。根据所选转化方式预计需投入的资金 3000 万元，预期回收周期 4 年、预期回报率 25%。
【预期效益】该技术的应用有助于打破国家光刻机项目所用激光元件的国外禁运限制，提高大能量高功率激光装置和加工设备的激光元件的国产化率。预期销售额可达到 3000 万元 / 年，利润预计可达800 万元 / 年以上。
【联系方式】盛先生 0757-82727119/18042810582
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